26年WP金属材料工程 CuxS薄膜的制备及其透明导电性能2.61-AI69.85全日(11520字).docx

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WHKJ 大学本科毕业论文I摘要为探究射频磁控溅射工艺参数对 CuₓS 薄膜光电性能的影响规律，并为其在 p 型透明导电薄膜及光电功能器件中的应用提供实验依据。本文以 CuS 陶瓷靶材为溅射源，采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备 CuₓS 薄膜。实验分别设计了固定溅射功率改变溅射时间、固定薄膜厚度改变溅射功率两组变量实验，并通过膜厚测试、紫外-可见分光光度测试和霍尔效应测试，对薄膜厚度、透过率、吸光度、载流子浓度、迁移率及电阻率等性能进行表征。结果表明，在固定溅射功率为 50 W 时，薄膜厚度随溅射时间延长近似线性增加。随着溅射时间继续延长...

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