26年WP集成电路设计与集成系统基于28nm工艺的PON模块布图优化与后端设计11.48-AI6.44.docx

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哈尔滨理工大学学士学位论文- I -基于 28NM 工艺 PON 模块布图优化与后端设计摘要随着集成电路制造技术的发展，28nm 工艺具有性能强、功耗低、集成度高等优点，是目前光通信芯片行业的主流制程。PON 模块作为光通信网络的重要组成部分，PON 模块芯片的设计好坏直接决定整个光通信网络的性能好坏以及可靠性程度，而布图规划设计作为数字后端设计中的重中之重，它的设计优劣直接决定整个芯片的性能及面积大小。本文主要采用UMC28nm 工艺对 PON 模块进行数字后端设计与布图设计优化。本文以 IC Compiler II 为基础设计平台，结合各种 EDA 工具形成一个...

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