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26年WP电子科学与技术 基于GaN基紫外Micro-LED阵列的无掩膜光刻研究7.66-AI26.72_1(28181字).docx

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哈尔滨理工大学学士学位论文- I -基于 GaN 基紫外 Micro-LED 阵列的无掩膜光刻研究摘 要传统光刻技术在半导体加工和微纳制造领域得到了广泛应用,但其高度依赖掩膜版,存在制作成本高、周期长以及图形修改不便等问题,难以适应快速迭代和小批量定制加工的需求。相比之下,无掩膜光刻无需制作专用掩膜版,具有图形可编程、工艺灵活和加工效率较高等优点,因此逐渐成为微纳制造领域的重要研究方向。紫外 Micro-LED 阵列具有亮度高、响应快、易于阵列化和可独立寻址等优点,在无掩膜光刻中也表现出较好的应用潜力。本文围绕 GaN 基紫外 Micro-LED 阵列在无掩膜...

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