26年WH物理学 Nb掺杂TiO2薄膜的脉冲激光沉积生长7.42-AI32.43-约14373字符.docx

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I摘要透明导电氧化物（TCO）是平板显示、太阳能电池和触摸屏等光电器件的关键材料。目前广泛使用的氧化铟锡（ITO）因铟资源稀缺而面临成本上升的压力，开发无铟透明导电材料成为重要研究方向。Nb 掺杂 TiO2（Nb:TiO2）因其优异的光电性能和地球丰度高的优势，被认为是最有潜力的替代材料之一。脉冲激光沉积（PLD）凭借其良好的化学计量保持能力和对难熔材料的适用性，成为制备高质量 Nb:TiO2薄膜的理想手段。本文综述了 Nb:TiO2薄膜的脉冲激光沉积生长研究进展，从透明导电氧化物的背景出发，分析了 PLD 技术的原理与优势，详细阐述了 Nb 掺杂 TiO2薄膜的物相...

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